我們所說的電子束轟擊爐主要應(yīng)用于貴重稀有灘熔金屬的熔煉和精練，是一種綜合了真空物理、材料科學(xué)、電子技術(shù)、電子光學(xué)、高電壓技術(shù)、計(jì)算機(jī)和控制技術(shù)等多種技術(shù)的高科技產(chǎn)品。與其它真空熔煉爐相比，電子束轟擊爐功率密度高，爐內(nèi)真空度高，容易制備各種高純材料或特殊合金以及用于熔煉優(yōu)質(zhì)特殊鋼和欽廢屑回收等，此外還具有無耐火材料對(duì)環(huán)境污染和節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。

 電子束轟擊爐的發(fā)展方向是大功率、多槍，國(guó)外這類設(shè)備的最大功率可達(dá)2400 kW，單臺(tái)最多可配置4把電子槍。我國(guó)是具備完全知識(shí)產(chǎn)權(quán)生產(chǎn)這類設(shè)備能力的少數(shù)國(guó)家之一，單臺(tái)設(shè)備功率達(dá)1000 kW。

電子束轟擊爐的關(guān)鍵技術(shù)就是電子束發(fā)生器及其電源。目前大功率電子束轟擊爐多采用間熱式陰極軸向電子槍，主要包括電子束發(fā)生系統(tǒng)(燈絲、陰極、聚束極、陽極等組成)和電子光路系統(tǒng)(由磁透鏡、光闌柵騙轉(zhuǎn)掃描器組成)兩部分。與電子束發(fā)生系統(tǒng)相對(duì)應(yīng)的電源有燈絲加熱電源、轟擊電源和電子束加速電源，這二種電源工作于負(fù)高壓端。與電子光路系統(tǒng)相對(duì)應(yīng)的電源為聚焦電源和偏掃電源，它們工作于低壓端。